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生产厂家详解——锡膏兼容性与残留物要求

来源:优特尔锡膏 浏览: 发布时间:2025-08-13 返回列表

在锡膏使用中,“兼容性”和“残留物要求”是直接影响焊接质量、产品可靠性及生产稳定性的核心因素,尤其在精密电子、高可靠性场景(如汽车电子、军工航天)中尤为关键从实操角度细化这两方面的注意事项:

锡膏兼容性:避免“隐性冲突”导致的工艺失效

锡膏的兼容性需覆盖化学体系、基材匹配、工艺适配三个维度,任何一环冲突都可能引发虚焊、锡珠、锡膏变质等问题。

1. 与助焊剂的化学兼容性:核心是“成分不冲突”

锡膏内置助焊剂与额外添加的助焊剂(若使用)需避免化学反应:

松香基锡膏(最常见):需搭配同体系的松香基助焊剂(如RMA、RA级),避免与水溶性助焊剂(含羧酸、卤素盐)混用——前者含松香树脂(酸性弱),后者含强极性溶剂,混合后可能导致锡膏粘度骤降(流动性失控)或产生沉淀(堵塞钢网)。

水溶性锡膏(含高活性助焊剂,如有机酸、无机酸盐):仅能搭配水溶性助焊剂,不可与松香型混用——松香树脂会在水中形成不溶物,导致焊接后残留难以清洗,甚至腐蚀焊点。

无卤锡膏:需搭配无卤助焊剂(卤素含量<500ppm),若混入含卤助焊剂(如含氯、溴成分),会破坏“无卤”特性,还可能因卤素过量导致焊点脆化。

 验证方法:取少量锡膏与助焊剂混合,搅拌后观察是否分层、结块、变稀;静置24小时后测试粘度变化(偏差应<10%)。

 2. 与基材的兼容性:避免“润湿障碍”

 不同基材(PCB镀层、元器件引脚)对锡膏的活性需求不同,兼容性不足会直接导致润湿性差:

 镀金/镀银基材:表面氧化层薄,需搭配低活性锡膏(R0/RMA级)——若用高活性(RA/RSA级),锡膏中的有机酸会过度腐蚀镀层,形成“黑盘”(焊点边缘发黑,强度下降)。

镀镍/黄铜基材:镍氧化层致密、黄铜易氧化,需搭配中高活性锡膏(RA级)——活性不足会导致焊锡无法铺展,形成“缩锡”(焊点呈球状,未与基材结合)。

OSP处理的PCB(有机防护膜):需搭配专为OSP设计的锡膏(助焊剂含特定酯类成分,可溶解OSP膜而不腐蚀铜箔),普通锡膏可能因无法穿透OSP膜导致虚焊。

 3. 与工艺设备的兼容性:减少“设备损耗”

 钢网兼容性:锡膏中的助焊剂若含强腐蚀性成分(如无机酸),会腐蚀不锈钢钢网的开孔边缘,导致印刷时锡膏漏印量异常(需选择中性或弱酸性助焊剂的锡膏)。

回流炉兼容性:高温下锡膏挥发物若含高沸点成分(如某些合成树脂),可能在炉内结焦(污染加热管),需选择挥发物匹配回流炉温度曲线的锡膏(如高温段挥发物残留<0.5%)。

 残留物要求:从“合规”到“可靠性”的控制

 残留物的核心风险是腐蚀、电迁移、绝缘失效,需根据产品应用场景制定严格标准,而非单纯“越少越好”。

 1. 按产品场景明确残留阈值

 免清洗场景(消费电子、精密仪器):

残留量:焊后残留面积覆盖率<5%,离子污染度(NaCl当量)<1.5μg/cm²(通过IPC-TM-650 2.3.25测试)。

锡膏选择:优先“免清洗型锡膏”(助焊剂为改性松香+低活性有机酸,残留呈固态、无吸湿性,如R0级),避免使用水溶性或高活性锡膏(残留易吸潮导致短路)。

可清洗场景(工业设备、大功率器件):

允许使用高活性锡膏(RA/RSA级),但清洗后残留需满足:离子污染度<0.5μg/cm²,表面绝缘电阻(SIR)>10⁹Ω(40℃/90%RH环境下测试,IPC-TM-650 2.6.3.3)。

清洗要点:用专用清洗剂(如异丙醇、专用水性清洗剂),避免残留助焊剂与清洗剂反应生成新污染物(如松香与碱性清洗剂可能生成粘性残留物)。

高可靠性场景(汽车电子、航天军工):

残留要求最严格:需“零可见残留”,且通过温度循环(-40℃~125℃)和湿热循环(85℃/85%RH)后的SIR仍>10¹⁰Ω,避免长期使用中因残留吸潮导致失效。

 2. 残留控制的实操要点

 源头选择:根据残留要求直接选定锡膏类型(免清洗/水洗/无残留),而非依赖后续处理——例如,汽车电子PCB若设计为“不可清洗”,必须用免清洗型锡膏,不可用高活性锡膏“赌清洗效果”。

工艺优化:回流焊温度曲线需匹配锡膏助焊剂的挥发特性(如升温段缓慢挥发低沸点成分,避免残留气泡;保温段充分活化,减少未反应的助焊剂残留)。

检测验证:量产前做“残留可靠性测试”——将焊后样品置于85℃/85%RH环境中存放1000小时,测试焊点绝缘电阻和外观,无腐蚀、无迁移为合格。

 

兼容性的核心是“避免冲突”:通过化学成分匹配、基材适配性测试、设备兼容性验证,从源头减少工艺异常;残留物的核心是“按需控制”:根据产品可靠性等级选择锡膏类型,结合工艺优化和检测,确保残留

生产厂家详解——锡膏兼容性与残留物要求(图1)

量在安全阈值内。

两者结合,才能实现“焊接稳定+长期可靠”的目标。